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Teilvorhaben 4: Erprobung und Qualifizierung der Fluor-Gasgemische und benötigter Hardware, Transfer in eine industrielle Pilotlinie^r+Impuls : ecoFluor- Innovative und umweltfreundliche, auf Fluor(F2)-basierte Reinigungsprozesse als Ersatz für NF3 und PFCs in der Halbleiterindustrie^Teilvorhaben 3: Remote-Mikrowellenplasmaquelle, Teilvorhaben 2: Validierung und Optimierung der neuen Reinigungsprozesse auf Produktionsanlagen und Überführung in die Produktion

Description: Das Projekt "Teilvorhaben 4: Erprobung und Qualifizierung der Fluor-Gasgemische und benötigter Hardware, Transfer in eine industrielle Pilotlinie^r+Impuls : ecoFluor- Innovative und umweltfreundliche, auf Fluor(F2)-basierte Reinigungsprozesse als Ersatz für NF3 und PFCs in der Halbleiterindustrie^Teilvorhaben 3: Remote-Mikrowellenplasmaquelle, Teilvorhaben 2: Validierung und Optimierung der neuen Reinigungsprozesse auf Produktionsanlagen und Überführung in die Produktion" wird/wurde gefördert durch: Bundesministerium für Bildung und Forschung. Es wird/wurde ausgeführt durch: Texas Instruments Deutschland GmbH.Ziel des Projekts ist die Erprobung, die Qualifizierung und die industrielle Anwendung neuer, auf einer F2/Ar/N2 Mischung basierten Reinigungsprozesse für Chemical Vapour Deposition (CVD) Anlagen in der Halbleiter-Fertigung. Mit diesem Fluor-Gasgemisch (hoher N2 Anteil) werden das bisher in großen Mengen verwendete NF3 und andere Treibhausgase aus der Gruppe der perfluorierten Kohlenwasserstoffe (PFC), wie z.B. C3F8, C2F6 und CF4 ersetzt (Drop-In Replacement). Die technologisch unvermeidbaren Restemissionen der Prozessgase auch im unteren ppm-Bereich werden durch den Einsatz von Fluor-Gasgemischen bei der plasmaunterstützten Reinigung von CVD Prozesskammern vermieden. Gerade bei NF3 ist die klimatische Auswirkung auch geringer Emissionen wegen des hohen Global Warming Potential (GWP) Faktors versus CO2 von 17200 besonders hoch. Der GWP Faktor einer F2/Ar/N2 Mischung ist 1. Angestrebtes Ergebnis von ecoFluor ist eine Senkung des Ressourcenverbrauchs und der umweltschädlichen Restemissionen bei gleichzeitiger Erhöhung der Kosteneffizienz. Zu Beginn der Phase 1 werden bei TI in Freising Installationsarbeiten durchgeführt, die die Evaluierung der F2/Ar/N2 Mischungen an 3 verschiedenen Anlagentypen ermöglichen. Basierend auf den vorliegenden Ergebnissen werden dann in der zweiten Hälfte der Phase 1 Versuche auf Testwafern durchgeführt, mit dem Ziel, fertigungstaugliche Reinigungsprozesse zu definieren. In Phase 2 werden diese Reinigungsprozesse gemäß den bei TI üblichen Verfahrensweisen in die Produktion überführt und daran anschließend deren Effizienz über einen längeren Zeitraum überwacht und dokumentiert.

Types: 
SupportProgram

Origin: /Bund/UBA/UFORDAT

Tags: Stickstoffgehalt ? Plasmatechnik ? Argon ? Fluor ? Texas ? Stickstoff ? Oktafluorpropan ? Tetrafluormethan ? Treibhausgasemission ? Stickstofftrifluorid ? Chemische Zusammensetzung ? Gasgemisch ? Hardware ? Verfahrenskombination ? Verfahrensoptimierung ? Perfluorierte Kohlenwasserstoffe ? Produktionstechnik ? Emissionsminderung ? Ersatzstoff ? Industrieanlage ? Betriebsanlage ? Materialeffizienz ? Ressourcenverbrauch ? F-Gase ? Kosteneffizienz ? Umweltverträglichkeit ? Anlagenbau ? Versuchsanlage ? Reinigungsverfahren ? Treibhausgas ? Industrielles Verfahren ? Halbleiter ? Effizienzsteigerung ? Klimawirkung ? Pilotprojekt ? Effizienzkriterium ? Maßstabsvergrößerung ? Chemical Vapour Deposition-Anlagen ? Validierung ?

Region: Bayern

Bounding boxes: 12.53381° .. 12.53381° x 47.795° .. 47.795°

License: cc-by-nc-nd/4.0

Language: Deutsch

Organisations

Time ranges: 2016-01-01 - 2018-12-31

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