Description: Das Projekt "Teilvorhaben: Untersuchung und Bewertung neuer Messstrategien für High-End Fotomasken Uniformitäten und Linienrauigkeiten sowie Materialschichten" wird vom Umweltbundesamt gefördert und von Advanced Mask Technology Center GmbH & Co. KG durchgeführt. Linienrauigkeiten und CD-Uniformität der Fotomaske übertragen sich auf die Strukturen auf dem Wafer und beeinflussten die Performance des Mikrochips. Dadurch müssen alle relevanten Größen deutlich verbessert werden. Mit der Korrelation der Größen innerhalb der Masken-Prozesskette können Effekte eindeutig einem Prozessschritt zugeordnet werden, so dass dort verbesserte Regelmechanismen möglich sind. Allerdings sind dazu neue messtechnische Ansätze notwendig, die es ermöglichen direkt relevante Chipstrukturen zu vermessen. Durch eine Verkleinerung des Messbereiches von derzeit 500x500 Mikron auf 10x10 Mikron, durch eine Reduzierung der verwendeten Spotgröße und angepassten Messstrategien des Untersuchungsgerätes soll die Nutzbarkeit im Vergleich zu alternativen Messstrategien innerhalb des Projektes untersucht und bewertet werde. Im Mittelpunkt der Arbeiten des AMTC steht das Wissen aus der herkömmlichen Ellipsometrie einzubringen, geeignet zu modifizieren und eine zügige Erreichung der kleinen Spotgröße zu ermöglichen. Mit Hilfe des kleinen Spots können lokale Photomasken-Eigenschaften, wie LER und CD-Uniformität deutlich besser untersucht werden. Zusätzlich stellt das AMTC den Partnern geeignete Fotomasken zur in-line Messung bereit. Am Ende werden die Ergebnisse aus Sicht eines Endanwenders bewertet und eine Gap-Analyse hinsichtlich einer zukünftigen industriellen Nutzung erstellt.
SupportProgram
Origin: /Bund/UBA/UFORDAT
Tags: Lack ? Elektronik ? Bildverarbeitung ? Elektrizitätsverbrauch ? Materialprüfung ? Messtechnik ? Spektralanalyse ? Verfahrensoptimierung ? Beschichtung ? Qualitätsmanagement ? Stromeinsparung ? Messverfahren ? Produktionstechnik ? Prüfverfahren ? Vergleichsanalyse ? Energieeffizienz ? Halbleiter ? Physikalische Größe ? Nanotechnologie ? Auflösungsvermögen ? Ellipsometrie ? High-End Fotomaske ? Metrologie ? Miniaturisierung ? Nanobereich ? line-edge roughness ?
Region: Sachsen
Bounding boxes: 10.40664° .. 10.40664° x 49.29433° .. 49.29433°
License: cc-by-nc-nd/4.0
Language: Deutsch
Time ranges: 2011-09-01 - 2014-04-30
Webseite zum Förderprojekt
https://www.tib.eu/de/filter?repno=16N11500 (Webseite)Accessed 1 times.