Description: Das Projekt "Teilvorhaben: Entwicklung eines Co-Diffusion-Prozesses aus APCVD abgeschiedenen Dotierschichten für Wafer aus multikristallinem Silizium" wird vom Umweltbundesamt gefördert und von Gebr. Schmid GmbH durchgeführt. Multikristalline Siliziumwafer werden einem Co-Diffusionsprozess, bei dem gleichzeitig Bor und Phosphor in den Wafer eingebracht werden, unterzogen. Dies stellt den Basisschritt für die Herstellung bifazialer Solarzellen dar. Ziel hierbei ist es, einen Dotierprozess zu entwickeln, der für multikristallines Wafermaterial unterschiedlicher Qualität geeignet ist. Hierbei steht vor allem die Auswirkung des Getterns auf vorhandene Defektstrukturen und Verunreinigungen im Vordergrund. Die Arbeiten im Projekt werden von den Projektpartnern SCHMID Group und der Universität Konstanz in Zusammenarbeit ausgeführt. Der Fokus der SCHMID Group liegt auf der Entwicklung eines ökonomischen Verfahrens für die beidseitige Dotierung. Die Universität Konstanz nutzt ihre Expertise im Bereich der Charakterisierung der Prozessergebnisse ein, um diese detailliert bewerten zu können.
SupportProgram
Origin: /Bund/UBA/UFORDAT
Tags: Konstanz ? Luftdruck ? Bor ? Phosphor ? Photovoltaik ? Silizium ? Solarzelle ? Materialschaden ? Struktur-Wirkung-Beziehung ? Beschichtung ? Gasförmiger Stoff ? Abscheidung ? Kostensenkung ? Produktionskosten ? Produktionstechnik ? Verfahrenstechnik ? Wirkungsanalyse ? Diffusion ? Gutachten ? Verunreinigung ? Atmosphärendruck-Gasphasenepitaxie (APCVD) ? Bifaziale Solarzelle ? Polykristalline Solarzelle ?
Region: Baden-Württemberg
Bounding boxes: 9° .. 9° x 48.5° .. 48.5°
License: cc-by-nc-nd/4.0
Language: Deutsch
Time ranges: 2016-05-01 - 2019-04-30
Webseite zum Förderprojekt
https://www.tib.eu/de/filter/?repno=0324041A (Webseite)Accessed 2 times.