DYNASTO, Dynamische Abscheidung von a-Si und TCO-Schichten für Hocheffizienz Si-Solarzellen für hochproduktive Fertigung bei reduzierten Herstellkosten; Teilvorhaben: Evaluierung Prozess- und Anlagentechnologie zur dynamischen Abscheidung von a-Si:H Schichten für hocheffiziente Si-Solarzellen

Description: DYNASTO zielt auf die Entwicklung dynamischer Abscheideverfahren zur Herstellung transparenter Kontaktschichten (transparent conducting oxide, TCO) und amorpher Silizium (a-Si:H) Passivierungs- und Kontakt-Schichten für eine hochproduktive Fertigung von hocheffizienten Solarzellen basierend auf passivierten Kontakten mit erhöhtem Wirkungsgrad. Die Kosten solcher Solarzellen werden neben den Kosten für Wafer wesentlich durch die Kosten für die TCO und die a-Si:H Abscheidung, sowie die Metallisierung bestimmt. Dynamische (in-line) Abscheideprozesse bieten signifikante Produktivitätsvorteile, ohne dass die Anzahl der Produktionsanlagen und damit der Flächenbedarf in gleichem Maße steigen. Roadmaps gehen hier von einer Reduzierung um 50% aus. In DYNASTO werden industriell etablierte, massenfertigungstaugliche Herstellungsverfahren mit neuartigen Materialien und Prozessen kombiniert, z.B. für die a-Si Abscheidung die übliche statische durch eine dynamische Abscheidung ersetzt. Dafür ist es notwendig, das physikalische Verständnis des Schichtwachstums sowie die damit verbundene Kontaktausbildung zu verbessern. Als Zielwert für den Wirkungsgrad von industriellen Zellen basierend auf passivierten Kontakten wird Eta=24 % gesetzt, bei einer Senkung der Herstellkosten im zweistelligen Prozentbereich.

SupportProgram

Origins: /Bund/UBA/UFORDAT

Tags: Oxid ? Silizium ? Solarzelle ? Beschichtung ? Abscheidung ? Bewertung ? Flächennutzung ? Produktionstechnik ? Verfahrenstechnik ? Wirkungsgrad ? Zelle ? Industrieanlage ? Neuartige Materialien ? Industrielles Verfahren ? Zielwert ? Amorphe Solarzelle ?

Region: Baden-Württemberg

Bounding boxes: 9° .. 9° x 48.5° .. 48.5°

License: cc-by-nc-nd/4.0

Language: Deutsch

Organisations

• Bundesministerium für Wirtschaft und Energie (Geldgeber*in)
• FAP Forschungs- und Applikationslabor Plasmatechnik GmbH Dresden (Mitwirkende)
• Fraunhofer-Institut für Solare Energiesysteme (Betreiber*in)
• Helmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie GmbH, Institut Materialien für Photovoltaik (E-I5) (Mitwirkende)
• NXT GmbH (Mitwirkende)
• PI Photovoltaik-Institut Berlin AG (Mitwirkende)
• PLASUS GmbH (Mitwirkende)
• Technische Universität Dresden, Institut für Halbleiter- und Mikrosystemtechnik (Mitwirkende)
• Umweltbundesamt (Bereitsteller*in)
• VON ARDENNE GmbH (Mitwirkende)

Time ranges: 2019-01-01 - 2021-12-31

Alternatives

• Language: Englisch/English
  Title: DYNASTO - Dynamic deposition of a-Si and TCO layers for high-efficiency Si solar cells for highly productive production at reduced manufacturing costs; Subproject: Evaluation of process and equipment technology for dynamic deposition of a-Si:H layers for high-efficiency Si solar cells
  Description: DYNASTO aims at the development of dynamic deposition processes for the production of transparent conducting oxide (TCO) and amorphous silicon (a-Si:H) passivation and contact layers for a highly productive production of highly efficient solar cells based on passivated contacts with increased efficiency. The costs of such solar cells are determined not only by the costs of wafers, but also to a large extent by the costs of TCO and a-Si:H deposition, as well as metallization. Dynamic (in-line) deposition processes offer significant productivity advantages without increasing the number of production facilities and thus the space requirements to the same extent. Roadmaps assume here a reduction of 50%. In DYNASTO, industrially established, mass production-suitable manufacturing methods are combined with new materials and processes, e.g. for a-Si deposition, the usual static deposition is replaced by dynamic deposition. For this purpose, it is necessary to improve the physical understanding of the layer growth and the associated contact formation. The target value for the efficiency of industrial cells based on passivated contacts is set at Eta=24 %, with a double-digit percentage reduction in manufacturing costs. https://ufordat.uba.de/UFORDAT/pages/PublicRedirect.aspx?TYP=PR&DSNR=1081992

Status

Aktiv

Quality score

• Overall: 0.46
• Findability: 0.52

  • Title: 0.00
  • Description: 0.20
  • Identifier: false
  • Keywords: 0.94
  • Spatial: RegionIdentified (1.00)
  • Temporal: true
• Accessibility: 0.67

  • Landing page: Specific (1.00)
  • Direct access: false
  • Publicly accessible: true
• Interoperability: 0.00

  • Open file format: false
  • Media type: false
  • Machine-readable metadata: false
  • Machine-readable data: false
• Reusability: 0.67

  • License: ClearlySpecifiedAndFree (1.00)
  • Contact info: false
  • Publisher info: true

Accessed 1 times.