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Reinigung von technischen Oberflaechen fuer plasmaunterstuetzte Beschichtungsprozesse

Description: Ausgeloest durch verschaerfte gesetzliche Bestimmungen einerseits und staendig wachsende Ansprueche an technische Oberflaechen andererseits, muessen derzeit in allen Bereichen der industriellen Teilereinigung Anstrengungen zur Umstellung bislang praktizierter Verfahren getroffen werden. Im Zusammenhang hochentwickelter Beschichtungsverfahren spielt die Substratvorbehandlung im Zusammenhang mit der Schichthaftung und damit der Qualitaetssicherung eine wichtige Rolle. Zu den jahrelang fast ausschliesslich eingesetzten FCKW und CKW wurden in den letzten Jahren alternative Reinigungsverfahren entwikkelt. Dazu sind diverse nasschemische Verfahren auf der Basis waessriger, halbwaessriger und organischer Medien zu nennen, des weiteren trockenchemische Verfahren wie die Plasma- oder die UV/Ozonreinigung. Ein direkter und systematischer Vergleich dieser Verfahren hinsichtlich ihrer Eignung fuer bestimmte Reinigungsaufgaben und Moeglichkeiten ihrer Kombination steht bislang jedoch noch aus. Ziel des genannten Projektes ist die Evaluierung dieser Verfahren fuer den Bereich der plasmaunterstuetzten Beschichtungsprozesse. Zu diesen zaehlt die PACVD (plasma assisted chemical vapour deposition) und die PVD (physical vapour deposition). Im Projekt sollen anhand von vier ausgewaehlten typischen Schicht-Substratverbuenden die genannten Reinigungsverfahren einzeln und die Kombination (d. h. nasschemische mit anschliessender trockenchemischer Reinigung) unter Betrachtung funktioneller, oekologischer und oekonomischer Aspekte verglichen und optimiert werden.

Types:
SupportProgram

Origins: /Bund/UBA/UFORDAT

Tags: Chlorkohlenwasserstoff ? FCKW ? Beschichtung ? Bestimmungsmethode ? Vergleichsanalyse ? Oberflächenbehandlung ? Substituierbarkeit ? Reinigungsverfahren ? plasmaunterstuetzte-Beschichtungsprozess ?

Region: Lower Saxony

Bounding boxes: 9.16667° .. 9.16667° x 52.83333° .. 52.83333°

License: cc-by-nc-nd/4.0

Language: Deutsch

Organisations

Time ranges: 1995-11-20 - 2025-08-17

Status

Quality score

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