Description: Das Projekt "Neuartige hochauflösende Metrologie an High-End Fotomasken für energieeffiziente Nanoelektronik (CoolMaskMetro), Teilvorhaben: Grundlagenentwicklung für ein lateral hochauflösendes spektroskopisches Ellipsometer" wird/wurde gefördert durch: Bundesministerium für Bildung und Forschung. Es wird/wurde ausgeführt durch: Fraunhofer-Institut für Zerstörungsfreie Prüfverfahren, Insitutsteil Dresden.Das zentrale Ziel dieses Vorhabens ist die Demonstration von Ellipsometrie-Messungen an Masken mit einer stark verbesserten lateralen Auflösung. Für die optische Inspektion und non-invasive geometrische Oberflächencharakterisierung von Strukturen im entwickelten Photolack der High-End Fotomasken sollen die grundlegenden Technologien für ein lateral hochauflösendes spektroskopisches Ellipsometer mit einer Spotgröße von 10 mym erforscht werden. Die im Vergleich zur konventionellen Ellipsometrie um den Faktor 10 erhöhte laterale Auflösung gestattet die flächenmässige Verkleinerung von Testfeldern auf High-End Fotomasken um zwei Größenordnungen und die Verbesserung der LER. So kann die Energieeffizienz von zukünftigen Halbleiterprozessoren um den Faktor 2 gesteigert werden. Nach der Definition der Komponentenanforderungen aus Sicht der Applikation und Erarbeitung eines umfassenden Systemkonzeptes wird der Aufbau des konfokalen Mikroeleipsometres in mehreren Schritten erfolgen: Interferometer mit implementierter fouriertransformierender (FT) Polarisationsspektroskopie, Implementierung der konfokalen Abbildung, des Autofokus und der spektralen Aufnahme, Aufbau eines FT-konfokalen Mikroellipsometers, Entwicklung eines entsprechenden kippbaren Tisches für den experimentellen Aufbau. Für alle Teilschritte ist die Entwicklung entsprechender Kalibrierungsprozeduren, die Vermessung von Teststrukturen und die vergleichende Messungen an etablierten Ellipsometern notwendig.
SupportProgram
Origin: /Bund/UBA/UFORDAT
Tags: Lack ? FTIR-Spektroskopie ? Elektronik ? Interferometrie ? Kalibrierung ? Bildverarbeitung ? Elektrizitätsverbrauch ? Materialprüfung ? Messtechnik ? Spektralanalyse ? Verfahrensoptimierung ? Beschichtung ? Qualitätsmanagement ? Stromeinsparung ? Messverfahren ? Produktionstechnik ? Prüfverfahren ? Vergleichsanalyse ? Energieeffizienz ? Halbleiter ? Physikalische Größe ? Nanotechnologie ? Mikrotechnik ? Auflösungsvermögen ? Ellipsometrie ? Fourier-Transformation ? High-End Fotomasken ? Metrologie ? Miniaturisierung ? Nanobereich ? Polarisationsspektroskopie ? Vermessung ?
Region: Sachsen
Bounding boxes: 10.40664° .. 10.40664° x 49.29433° .. 49.29433°
License: cc-by-nc-nd/4.0
Language: Deutsch
Time ranges: 2011-09-01 - 2014-04-30
Webseite zum Förderprojekt
https://www.tib.eu/de/filter?repno=16N11495 (Webseite)Accessed 1 times.