DYNASTO, Dynamische Abscheidung von a-Si und TCO-Schichten für Hocheffizienz Si-Solarzellen als Schlüssel für hochproduktive Fertigung bei reduzierten Herstellungskosten; Teilvorhaben: Dynamische PECVD für Hocheffizienz Si-Solarzellen - Grundlagenuntersuchungen

Description: Im Projekt werden Grundlagenuntersuchungen zur dynamischen Abscheidung von amorphem Silizium für Heterojunction Solarzellen durchgeführt. Dabei kommt ein hochproduktives dynamisches PECVD Verfahren mittels linearer Plasmaquellen zum Einsatz. Einerseits sollen im Projekt sehr hohe dynamische Abscheideraten (5 nm.m/min) bei gleichzeitig hoher Passivierwirkung der a-Si:H Schichten (größer als 1 ms, iVoc größer als 720 mV) erreicht werden. Andererseits wird auch die Industrietauglichkeit der Abscheidung (Gasausnutzung größer als 20%) verbessert. Des Weiteren werden grundlegende Aspekte der dynamischen Abscheidung (Einfluss der Substratgeschwindigkeit, Homogenität der Abscheidung etc.) vor dem Hintergrund einer geforderten effizienten, wartungsarmen Beschichtungstechnologie untersucht. Der Einfluss der Plasmaanregungsfrequenz auf die Produktivität der Abscheidung ist ebenfalls Untersuchungsgegenstand des Teilvorhabens.

SupportProgram

Origins: /Bund/UBA/UFORDAT

Tags: Silizium ? Solarzelle ? Abscheidung ? Produktionskosten ? Produktivität ? Abscheiderate ?

Region: Sachsen

Bounding boxes: 10.40664° .. 10.40664° x 49.29433° .. 49.29433°

License: cc-by-nc-nd/4.0

Language: Deutsch

Organisations

• Bundesministerium für Wirtschaft und Energie (Geldgeber*in)
• FAP Forschungs- und Applikationslabor Plasmatechnik GmbH Dresden (Mitwirkende)
• Fraunhofer-Institut für Solare Energiesysteme (Mitwirkende)
• Helmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie GmbH, Institut Materialien für Photovoltaik (E-I5) (Mitwirkende)
• NXT GmbH (Mitwirkende)
• PI Photovoltaik-Institut Berlin AG (Mitwirkende)
• PLASUS GmbH (Mitwirkende)
• Technische Universität Dresden, Institut für Halbleiter- und Mikrosystemtechnik (Betreiber*in)
• Umweltbundesamt (Bereitsteller*in)
• VON ARDENNE GmbH (Mitwirkende)

Time ranges: 2019-01-01 - 2021-12-31

Alternatives

• Language: Englisch/English
  Title: DYNASTO ' Dynamic deposition of a-Si and TCO layers for high-efficiency Si solar cells as the key to highly productive production at reduced manufacturing costs; Subproject: Dynamic PECVD for high-efficiency Si-solar cells - basic research
  Description: In the project, basic research on the dynamic deposition of amorphous silicon for heterojunction solar cells is carried out. A highly productive dynamic PECVD process using linear plasma sources is used. On the one hand, the project aims to achieve very high dynamic deposition rates (5 nm.m/min) with simultaneously high passivation of the a-Si:H layers ( greater than 1ms, iVoc greater than 720mV). On the other hand, the industrial suitability of the deposition (gas utilization greater than 20%) will be improved. Furthermore, fundamental aspects of dynamic deposition (influence of substrate speed, homogeneity of deposition etc.) are investigated against the background of a required efficient, low-maintenance coating technology. The influence of the plasma excitation frequency on the productivity of the deposition is also the subject of the subproject. https://ufordat.uba.de/UFORDAT/pages/PublicRedirect.aspx?TYP=PR&DSNR=1081811

Status

Aktiv

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