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Hochdurchsatz Mikroablation zur Electroplating der Solarzellen der nächsten Generation, Teilvorhaben: Schnelle und präzise Durchlauflaserstrukturierung von Siliziumwafern

Description: Das Projekt "Hochdurchsatz Mikroablation zur Electroplating der Solarzellen der nächsten Generation, Teilvorhaben: Schnelle und präzise Durchlauflaserstrukturierung von Siliziumwafern" wird/wurde gefördert durch: Bundesministerium für Wirtschaft und Klimaschutz. Es wird/wurde ausgeführt durch: LPKF SolarQuipment GmbH.Der wachsende Markt für geplatete Solarzellen benötigt innovative Technologie im Bereich der Laserstrukturierung - höhere Auflösung für kleinere Leiterbahnen, großes Bearbeitungsfeld für wachsende Waferformate und schnellere Strahlablenkung für kürzere Prozesszeiten. Im Vorhaben MIRACLE werden Laseranlagenkonzepte entwickelt, die die oben genannten Herausforderungen erfüllen. Im Teilvorhaben 'Schnelle und präzise Durchlauflaserstrukturierung von Siliziumwafern' sollen dazu verschiedene Konzepte geprüft und ausgewertet werden. Ziel ist eine homogene Laseröffnung mit einer Breite bis 10 µm auf Wafer des Formats bis M12 und mit einem Durchsatz von 8000 Wafer pro Stunde. Die Umsetzung soll aus einer Kombination verschiedener Lösungsansätze erfolgen. Dazu zählen ultraschnelle Scanner, neue Optikdesigns, aktive Fokuskorrektur und eine schnelle Regelung. Zum Abschluss sollen die Ansätze in einer Protoypenanlage zusammenfließen, an der die definierten Anforderungen erprobt und demonstriert werden können.

Types:
SupportProgram

Origin: /Bund/UBA/UFORDAT

Tags: Solarzelle ? Scanner ? Galvanik ? Innovation ? Klimaschutz ?

Region: Mühlhausen/Thüringen

Bounding boxes: 10.453° .. 10.453° x 51.2217° .. 51.2217°

License: cc-by-nc-nd/4.0

Language: Deutsch

Organisations

Time ranges: 2023-02-01 - 2026-01-31

Alternatives

Status

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