Description: Das Projekt "Si- und SiGe-Dünnfilme für thermoelektrische Anwendungen (SiGe-TE)^Si- und Si-Ge-Dünnfilme für thermoelektrische Anwendung (SiGe-TE)^Glancing Angle Deposition von Si-Ge-Nanosäulen^Si- und SiGe-Dünnfilme für thermoelektrische Anwendungen (SiGe-TE), Si- und SiGe-Dünnfilme für thermoelektrische Anwendungen (SiGe-TE)" wird/wurde gefördert durch: Bundesministerium für Bildung und Forschung. Es wird/wurde ausgeführt durch: Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften, Max-Planck-Institut für Mikrostrukturphysik.
SupportProgram
Origin: /Bund/UBA/UFORDAT
Tags: Substrat ? Elektrizität ? Germanium ? Silizium ? Elektronenmikroskopie ? Materialprüfung ? Struktur-Wirkung-Beziehung ? Temperatur ? Wärmeleitfähigkeit ? Kristallisation ? Leitfähigkeit ? Messdaten ? Produktionstechnik ? Werkstoffkunde ? Wirkungsanalyse ? Halbleiter ? Produktdesign ? Physikalische Größe ? Netz ? Silizium-auf-Isolator-Substrat ? Thermoelektrischer Generator ? Thermoelektrizität ? ZT-Wert ?
Region: Sachsen-Anhalt
License: cc-by-nc-nd/4.0
Language: Deutsch
Time ranges: 2009-08-01 - 2013-02-28
Webseite zum Förderprojekt
https://www.tib.eu/de/filter?repno=03X3541B (Webseite)Accessed 1 times.