Si- und SiGe-Dünnfilme für thermoelektrische Anwendungen (SiGe-TE), Si- und Si-Ge-Dünnfilme für thermoelektrische Anwendung (SiGe-TE)

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Origins: /Bund/UBA/UFORDAT

Tags: Elektrizität ? Germanium ? Silizium ? Struktur-Wirkung-Beziehung ? Temperatur ? Verfahrenstechnik ? Vergleichsanalyse ? Produktbewertung ? Modellierung ? Bauelement ? Produktdesign ? Nanotechnologie ? Effizienzsteigerung ? Nanomaterialien ? Halbleiter ? Eignungsprüfung ? Finite Elemente ? Mechanische Belastung ? Thermoelektrizität ? ZT-Wert ?

Region: Sachsen-Anhalt

License: cc-by-nc-nd/4.0

Language: Deutsch

Organisations

• Bundesministerium für Forschung, Technologie und Raumfahrt (Geldgeber*in)
• Fraunhofer-Institut für Werkstoffmechanik, Außenstelle Halle (Betreiber*in)
• IHP GmbH - Innovations for High Performance Microelectronics , Institut für innovative Mikroelektronik (Mitwirkende)
• Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung e.V. (Mitwirkende)
• Martin-Luther-Universität Halle-Wittenberg (Mitwirkende)
• Max-Planck-Gesellschaft (Mitwirkende)
• Umweltbundesamt (Bereitsteller*in)

Time ranges: 2009-08-01 - 2013-02-28

Resources

• Webseite zum Förderprojekt

  https://www.tib.eu/de/filter?repno=03X3541E (Webseite)

Status

Aktiv

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