Si- und SiGe-Dünnfilme für thermoelektrische Anwendungen (SiGe-TE), Glancing Angle Deposition von Si-Ge-Nanosäulen

SupportProgram

Tags: Substrat ? Elektrische Energie ? Germanium ? Silizium ? Struktur-Wirkung-Beziehung ? Temperatur ? Vakuumtechnik ? Verfahrensparameter ? Abscheidung ? Verfahrenstechnik ? Thermisches Verfahren ? Anlagenbau ? Bauteil ? in situ ? Produktdesign ? Nanotechnologie ? Nanomaterialien ? Glancing Angle Deposition ? Halbleiter ? Nachbehandlung ? Thermoelektrizität ? Werkstoffkunde ?

Region: Sachsen Sachsen

Bounding boxes: 11.871483699999999° .. 15.041930899999999° x 50.1713271° .. 51.6849651° 11.87146257539018° .. 15.041815656442171° x 50.17153496476331° .. 51.68497371608658°

License: Creative Commons Namensnennung-keine Bearbeitung-Nichtkommerziell 4.0

Language: Deutsch

Organisations

• Bundesministerium für Forschung, Technologie und Raumfahrt (Finanzielle Förderung)
• Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung e. V. (Projektverantwortung)
• Umweltbundesamt (Bereitstellung)

Last harvest: 10.08.2026 00:06

Time ranges: 2009-08-01 - 2012-07-31

Resources

• Webseite zum Förderprojekt

  https://www.tib.eu/de/filter?repno=03X3541C (Webseite) ✓

Status

Aktiv

Quality score

• Overall: 0.42
• Findability: 0.46

  • Title: 0.80
  • Description: 0.00
  • Identifier: false
  • Keywords: 0.77
  • Spatial: BoundingBox (0.50)
  • Temporal: DomainOnly
• Accessibility: 0.67

  • Landing page: Specific (1.00)
  • Direct access: false
  • Publicly accessible: true
• Interoperability: 0.00

  • Open file format: false
  • Media type: false
  • Machine-readable metadata: false
  • Machine-readable data: false
• Reusability: 0.57

  • License: ClearlySpecifiedAndFree (1.00)
  • Contact info: false
  • Publisher info: true
  • Currentness: Older (0.29)

Accessed 1 times.