Description: Der vorliegende Bericht beinhaltet grundlegende Arbeiten zur Weiterentwicklung der a-Si PV-Technologie. Er behandelt die Themen: Entwicklung von PECVD-Prozessen auf großen industrierelevanten Flächen, Verbesserung und Optimierung von Strukturierungsverfahren für hohe Flächenausnutzung, Beschleunigung und Reproduzierbarkeit der Einzelprozesse sowie Langzeitstabilität von verkapselten Modulen. Der Nachweis, dass a-Si Dünnschichtmodule höhere Erträge im Vergleich zu anderen PV-Technologien erbringen kann, wurde erbracht. Eine grundlegende Entscheidung wurde getroffen für die zukünftige Generation der PECVD-Anlage, eine Einkammerlaboranlage der Fa. Unaxis mit 1,4m2 Substratgröße wurde in Betrieb genommen. Entwicklungsarbeiten wurden begonnen.
Types:
SupportProgram
Origins:
/Bund/UBA/UFORDAT
Tags:
Photovoltaik
?
Silizium
?
Photovoltaikanlage
?
Solartechnik
?
Energietechnik
?
Modul
?
Technische Aspekte
?
Amorphes Silizium (a-Si)
?
Amorphous silicon (a-Si)
?
Bodeneffizienz
?
Haltbarkeit
?
KAI equipment
?
PECVD processes
?
PECVD-Prozesse
?
PV modules
?
Solarmodul
?
a-Si technology
?
a-Si-Technologie
?
p-i-n/p-i-n tandem cells
?
photoviltaics (PV)
?
Region:
Bayern
Bounding boxes:
12.53381° .. 12.53381° x 47.795° .. 47.795°
License: cc-by-nc-nd/4.0
Language: Deutsch
Organisations
Time ranges:
2001-01-01 - 2003-12-31
Alternatives
-
Language: Englisch/English
Title: Development and optimization of processes for producting highly efficient large-area thin-film-Si-PV modules
Description: This report contains fundamental topics an further developing the PV technology based an amorphous silicon (a-Si), namely upscaling of laboratory processes to production size areas, improvement of patterning processes to minimize area losses due to monolithic series connection of cells, speeding up individual.process steps while maintaining their reproducibility, long-term stability of encapsulated modules. Proof of higher energy yields for a-Si modules, compared to modules of all other PV technologies, has been achieved. A basic decision concerning the Future generation of PECVD equipment was reached. As a consequence and first step, a single-chamber deposition system, featuring 1.4m2 deposition area, from Unaxis Balzers Ltd. (model KAI-1200) has been put into operation.
https://ufordat.uba.de/UFORDAT/pages/PublicRedirect.aspx?TYP=PR&DSNR=1013271
Status
Quality score
- Overall: 0.43
-
Findability: 0.40
- Title: 0.00
- Description: 0.08
- Identifier: false
- Keywords: 0.35
- Spatial: RegionIdentified (1.00)
- Temporal: true
-
Accessibility: 0.67
- Landing page: Specific (1.00)
- Direct access: false
- Publicly accessible: true
-
Interoperability: 0.00
- Open file format: false
- Media type: false
- Machine-readable metadata: false
- Machine-readable data: false
-
Reusability: 0.67
- License: ClearlySpecifiedAndFree (1.00)
- Contact info: false
- Publisher info: true
Accessed 1 times.