Description: Das Projekt "Herstellung von hocheffizienten, duennen Si-Solarzellen bei erniedrigten Prozesstemperaturen" wird vom Umweltbundesamt gefördert und von Siemens AG durchgeführt. Es wurden sowohl duenne, kristalline Si-Wafer-Solarzellen bei erniedrigten Prozesstemperaturen als auch multikristalline Si-Duennschicht-Solarzellen auf Graphitsubstraten entwickelt und untersucht. Es konnten grossflaechige (175 cm2) Wafersolarzellen aus mono- und auch aus trikristallinem Silizium hergestellt werden, deren Dicke bis auf etwa l00 mym reduziert war. Ihre Wirkungsgrade erreichten ohne AR-Schicht Werte von 11,5-12,5 Prozent. Eine Erniedrigung der Prozesstemperaturen hat wegen der dabei auftretenden Verschlechterung der elektrischen Kenndaten keinen positiven Effekt auf die erwartete Kostenreduzierung. Tri-Si-Staebe sind mechanisch bruchfester und koennen daher mit hoeherer Ausbeute in duennere Wafer zersaegt werden. Mit duennen Schlitzsolarzellen (150 mym dick, 43 cm2 gross) aus tri-Silizium konnte das Konzept der Rueckseitenkontaktsolarzelle realisiert und ein Wirkungsgrad von 14,3 Prozent erreicht werden. Auf Graphitsubstraten abgeschiedene amorphe Si-Schichten konnten mit dem an der TU-HH entwickelten Elektronenstrahl-Rekristallisierungs-Verfahren schnell und effektiv zu grosskoernigen Si-Keimschichten umgewandelt werden. Die darauf mit CVD-Verfahren abgeschiedenen, 20-40 mym duennen, multikristallinen Si-Absorberschichten besassen ebenfalls noch ausgezeichnete kristallographische Eigenschaften. Ihre elektrische Qualitaet dagegen war nicht ausreichend, um daraus Solarzellen mit Wirkungsgraden ueber 3 Prozent herzustellen. Von den realisierten und untersuchten Konzepten hat mittelfristig die Entwicklung duenner Wafersolarzellen aus tri-Silizium das groesste Potential zur weiteren Kostenreduktion.
SupportProgram
Origin: /Bund/UBA/UFORDAT
Tags: Silizium ? Solarzelle ? Energieeinsparung ? Kostensenkung ? Wirkungsgrad ? Kenngröße ? Kennzahl ? Flachglasherstellung ?
Region: Bayern
Bounding boxes: 12.53381° .. 12.53381° x 47.795° .. 47.795°
License: cc-by-nc-nd/4.0
Language: Deutsch
Time ranges: 1995-01-01 - 1998-12-31
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