Si- und SiGe-Dünnfilme für thermoelektrische Anwendungen (SiGe-TE)^Si- und SiGe-Dünnfilme für thermoelektrische Anwendungen (SiGe-TE)^Si- und Si-Ge-Dünnfilme für thermoelektrische Anwendung (SiGe-TE)^Si- und SiGe-Dünnfilme für thermoelektrische Anwendungen (SiGe-TE)^Glancing Angle Deposition von Si-Ge-Nanosäulen, Si- und SiGe-Dünnfilme für thermoelektrische Anwendungen (SiGe-TE)

SupportProgram

Origins: /Bund/UBA/UFORDAT

Tags: Druckindustrie ? Elektrizität ? Germanium ? Silizium ? Materialprüfung ? Struktur-Wirkung-Beziehung ? Temperatur ? Verfahrensoptimierung ? Produktionstechnik ? Materialeffizienz ? Bauelement ? Kenngröße ? Nanotechnologie ? Effizienzsteigerung ? Nanomaterialien ? Lithographie ? Thermoelektrizität ? Werkstoffkunde ?

Region: Sachsen-Anhalt

License: cc-by-nc-nd/4.0

Language: Deutsch

Organisations

• Bundesministerium für Forschung, Technologie und Raumfahrt (Geldgeber*in)
• Fraunhofer-Gesellschaft (Mitwirkende)
• IHP GmbH - Innovations for High Performance Microelectronics , Institut für innovative Mikroelektronik (Mitwirkende)
• Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung e.V. (Mitwirkende)
• Max-Planck-Gesellschaft (Mitwirkende)
• Umweltbundesamt (Bereitsteller*in)
• Universität Halle-Wittenberg, Interdisziplinäres Zentrum für Materialwissenschaften (Betreiber*in)

Time ranges: 2009-08-01 - 2013-02-28

Resources

• Webseite zum Förderprojekt

  https://www.tib.eu/de/filter?repno=03X3541A (Webseite)

Status

Aktiv

Quality score

• Overall: 0.42
• Findability: 0.35

  • Title: 0.00
  • Description: 0.00
  • Identifier: false
  • Keywords: 0.83
  • Spatial: RegionOther (0.25)
  • Temporal: true
• Accessibility: 0.67

  • Landing page: Specific (1.00)
  • Direct access: false
  • Publicly accessible: true
• Interoperability: 0.00

  • Open file format: false
  • Media type: false
  • Machine-readable metadata: false
  • Machine-readable data: false
• Reusability: 0.67

  • License: ClearlySpecifiedAndFree (1.00)
  • Contact info: false
  • Publisher info: true

Accessed 1 times.