Description: In diesem Projekt sollen die Grundlagen für die industrielle Umsetzung von physikalischen Gasphasen-Abscheidetechnologien für die Kontakte von kristallinen Si-Solarzellen erforscht und entwickelt werden. Unter Verwendung dieser industriell umsetzbaren Hochratenabscheidetechnologie sollen Zellwirkungsgrade auf monokristallinen Si-Scheiben von größer als 20% demonstriert werden. Die Ergebnisse dieser Entwicklung sollen in einem industriellen Einsatz von Hochrateabscheideverfahren für Si-Solarzellen münden. Diese Verfahren stehen sowohl für dickere Schichten (bspw. zur Rückseitenmetallisierung) als auch dünnere (vorderseitige Galvaniksaatschichten) zur Verfügung. Zur Evaluierung der Inline-Fähigkeit der Abscheidetechnologie wird am Fraunhofer ISE ein vorkommerzieller Prototyp aufgebaut.
SupportProgram
Tags: Aluminium ? Substrat ? Silizium ? Solarzelle ? Materialprüfung ? Solartechnik ? Verfahrensoptimierung ? Abscheidung ? Betriebskosten ? Gütekriterien ? Depositionsrate ? Instandhaltung ? Kostensenkung ? Produktionstechnik ? Oberflächenbehandlung ? Elektrische Leistung ? Physikalischer Vorgang ? Modul ? Dünnschichtmodul [Solarzelle] ? Prototyp ? Reinigung ? Sputtertechnologie ? Verdampfung ? Werkstoffkunde ?
Region: Bayern
Bounding boxes: 8.975925858835046° .. 13.839584445425059° x 47.27012360469913° .. 50.56422474230778°
License: Creative Commons Namensnennung-keine Bearbeitung-Nichtkommerziell 4.0
Language: Deutsch
Last harvest: 11.05.2026 00:12
Time ranges: 2008-05-01 - 2010-10-31
Webseite zum Förderprojekt
https://www.tib.eu/de/filter?repno=0325025A (Webseite)Accessed 1 times.