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Herstellung von SiOx-Barriereschichten aus Polysilazanen bei Normaldruck und niedriger Temperatur mittels VUV-Strahlung, Teilvorhaben 2

Types:
SupportProgram

Tags: Substrat ? Photochemie ? Silizium ? UV-Strahlung ? Abwärme ? Radium ? Anorganische Verbindung ? Marktentwicklung ? Produktionstechnik ? Stand der Technik ? Verfahrenstechnik ? Wirkungsgrad ? Globale Aspekte ? Grundlagenforschung ? Katalyse ? Strahlungsquelle ? Temperaturbeständigkeit ?

Region: Nordrhein-Westfalen

Bounding boxes: 5.8662503507406045° .. 9.461478369136085° x 50.323011952581965° .. 52.53144342795586°

License: Creative Commons Namensnennung-keine Bearbeitung-Nichtkommerziell 4.0

Language: Deutsch

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Last harvest: 14.05.2026 00:23

Time ranges: 2006-12-01 - 2009-11-30

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