Das Projekt "SIMPLEX: Hocheffiziente Vakuumbeschichtungen von passivierenden Schichtsystemen auf c-Si Solarzellen, Teilprojekt: Chemische Charakterisierung und Echtzeitüberwachung des Prozessplasmas" wird/wurde gefördert durch: Bundesministerium für Wirtschaft und Klimaschutz. Es wird/wurde ausgeführt durch: PLASUS GmbH.In diesem Teilprojekt sollen die im Verbundprojekt SIMPLEX eingesetzten Schichtabscheidungssysteme hinsichtlich (i) ihrer chemischen Zusammensetzung untersucht werden, (ii) die zeitliche Entwicklung der Plasmateilchen im Abscheideprozess beobachtet und (iii) die räumliche Verteilung der Plasmateilchen im Prozessraum gemessen werden. Mit den Kenntnissen aus dieser Messungen sollen dann Regelverfahren für industrielle Produktionsanlagen ermitteln werden, die den Schichtabscheideprozess zeitlich und räumlich stabilisieren. Zielgebend ist dabei die Verringerung der Herstellkosten von Solarzellen auf der Basis der Abscheidetechnologie von Al2O3 und Si3N4, um nachhaltig wettbewerbsfähig zu sein. Innerhalb des Verbundprojektes sollen zunächst die Konzepte und Schichtabscheidungssysteme auf verschiedene Weise durch die Projektpartner analysiert und auf Produktionstauglichkeit überprüft werden, um sie dann im Folgenden in die Produktion zu überführen. Dabei sollen die notwendigen Modifikationen an einzelnen Bauteilen der heute verwendeten Beschichtungsanlagen erarbeitet und durchgeführt werden. Innerhalb dieses Teilvorhabens sollen dazu spektroskopische Messungen in Echtzeit mit einem Plasmamonitorsystem an der Entwicklungsanlage und an der Produktionsanlage durchgeführt werden. Hierbei kommt ein Mehrkanalsystem zum Einsatz (3-4 Kanäle), um auch die räumliche Verteilung der Plasmateilchen zu erfassen. Nach der Analyse der zeitlichen und räumlichen Messdaten wird ein Regelkonzept zur Stabilisierung des Prozessplasmas erarbeitet und an der Produktionsanlage des Verbundpartners überprüft und optimiert.
Das Projekt "SIMPLEX: Hocheffiziente Vakuumbeschichtungen von passivierenden Schichtsystemen auf c-Si Solarzellen, Teilprojekt: Erstellung PECVD-Plasmareaktor und Analyse des Plasmaprozesses" wird/wurde gefördert durch: Bundesministerium für Wirtschaft und Klimaschutz. Es wird/wurde ausgeführt durch: Singulus Technologies AG.Innerhalb des SIMPLEX-Verbundvorhabens soll im SINGULUS-Teilvorhaben Erstellung PECVD-Plasmareaktor und Analyse des Plasmaprozesses insbesondere an der Beschichtungstechnik für die plasmagestützte Abscheidung von Schichten oder Schichtsystemen gearbeitet werden. Die Arbeiten konzentrieren sich auf Si-Nitrid und Al-Oxyd, die als Passivierschichten für kristalline Solarzellen insbesondere bei hocheffizienten Strukturen wie PERC-Zellen Verwendung finden. Im Vordergrund dieses Teilvorhabens steht die wissenschaftliche Untersuchung der Vorgänge in PECVD (Plasma-Enhanced-Chemical-Vapour-Deposition) Prozessen. Die Zusammenhänge zwischen der Plasmaerzeugung, der Umsetzung der beteiligten Gase im Plasma und die Vorgänge, die zur Schichtbildung auf dem Substrat führen, sollen mittels in-situ Analytik eingehend untersucht werden. Das Ziel ist die Optimierung einerseits des Plasmabeschichtungsreaktors und andererseits der Schichtqualität. Folgende Arbeiten werden durchgeführt:-Analyse des aktuellen Standes der Beschichtungstechnik für passivierende Al2O3-/SiNx-Schichten hinsichtlich der Schichteigenschaften und der Kostenstruktur bei der Herstellung -Analyse des aktuell eingesetzten Plasmabeschichtungsreaktors (SINGULAR-Waferbeschichtungsanlage) -Aufbau eines experimentellen Versuchsreaktors -Experimentelle Ermittlung der Plasmabedingungen und -erzeugung für beschichtende und nichtbeschichtende Gase unter Verwendung der von den Partnern entwickelten in-situ Analytik -Durchführung von Plasmamodellierungen und Berechnungen der Gasströmung im Reaktor -Abgleich der experimentellen Daten mit den Ergebnissen der innerhalb des Gesamtvorhabens durchgeführten Plasmamodellierungen -Untersuchungen der Schichtbildung und der Schichteigenschaften -Optimierung des Reaktors hinsichtlich Gas- und Energieverbrauch -Kontrolle des Beschichtungsprozesses mittels der in-situ Analytik -Optimierung des Reaktors für stabile räumliche und zeitliche Schichtabscheidung.
Das Projekt "LASER-FAKT - Neue laserunterstützte Prozessschritte zur Herstellung von kristallinen Silizium-Solarzellen" wird/wurde gefördert durch: Ministerium für Wissenschaft, Forschung und Kunst Baden-Württemberg. Es wird/wurde ausgeführt durch: Albert-Ludwigs-Universität Freiburg, Freiburger Materialforschungszentrum.Das Projekt hat zum Ziel, das Know-how der beteiligten Partner im Bereich der Lasertechnologien zur Herstellung kristalliner Silizium-Solarzellen zu bündeln, die Forschungsaktivitäten auf diesem Gebiet in Baden-Württemberg zu koordinieren und neue Entwicklungen zu erforschen, einzuleiten und in Zusammenarbeit mit der insbesondere klein- und mittelständischen baden-württembergischen Industrie auch umzusetzen, um damit deren Wettbewerbsfähigkeit auf dem internationalen Markt deutlich zu steigern.