Lasergestützte Technologien zur Herstellung von Strukturen in der Größenordnung von Nanometer bis Millimeter haben eine Vielzahl von Anwendungsmöglichkeiten, darunter die Photonik, multifunktionale Oberflächen und Lab-on-a-Chip. Zur Herstellung dieser überaus feinen Strukturen wird Laserlithographie genutzt, doch die entsprechenden Prozesse weisen erhebliche Einschränkungen auf. Das EU-finanzierte Projekt OPTIMAL kombiniert erstmals verschiedene Laserlithographietechnologien und Qualitätsüberwachungssysteme in einer Plattform, um bestimmte Strukturen zu entwickeln. Hierdurch soll das Strukturierungsverfahren beschleunigt und verbessert werden. Damit sollen die Prozesseffizienz und Ausbeute gesteigert und somit in vielen Anwendungsbereichen der Energieverbrauch minimiert, Materialverschwendung vermieden, Kosten gesenkt und die Vorlaufzeit reduziert werden.