Das Projekt "Teilvorhaben: Tiegelfreies kontinuierliches Ziehverfahren für 200 mm Einkristalle mit granularem Silizium" wird vom Umweltbundesamt gefördert und von Siltronic AG, Standort Burghausen durchgeführt. Ziel des Teilvorhabens ist es, ein kostengünstiges monokristallines Substratmaterial für hocheffiziente Silicium-Solarzellen und ggf. auch für Leistungselektronikbauteile mittels eines neuen Ziehverfahrens GFZ (Granular Float Zone) industriell herzustellen und marktfähig zu machen. Nachteilig für das bisherige Standardverfahren (CZ) ist der hohe Sauerstoffgehalt, der zu einer Degradation des Zellenwirkungsgrades führt. Mit dem neuartigen GFZ-Verfahren hergestellte Kristalle weisen diese negativen Eigenschaften nicht auf, sind allerdings bisher nur bis 150 mm Durchmesser verfügbar sind. Die Standardsolarzelle weist aber mittlerweile eine Größe von 156 mm im Quadrat auf, wofür runde Kristalle mit einem Durchmesser von größer als über gleich zu 200 mm gezogen werden müssen. Um die mit dem GFZ-Verfahren hergestellten Kristalle dem Massenmarkt zugänglich zu machen, muss folglich das GFZ-Verfahren für 200 mm-Kristalle neu entwickelt werden. Ziel des Arbeitsplanes ist es letztendlich, das Verfahren für die Herstellung von Si-Einkristallen mit dem GFZ-Verfahren für 200 mm Durchmesser und auch die Vorrichtung zu entwickeln. Dafür müssen Methoden entwickelt werden, die diese großen Durchmesser versetzungsfrei zu ziehen erlauben. Das Aufschmelzen von Granulat muss leistungsfähiger werden (höhere Schmelzrate, geringere Fehlerrate). Weiter muss die Reinheit von Granulat sowie die der erzeugten Einkristalle verbessert werden, um den Anforderungen der Photovoltaik- und der Elektronikanwendungen zu genügen.