Das Projekt "Si- und Si-Ge-Dünnfilme für thermoelektrische Anwendung (SiGe-TE)^Si- und SiGe-Dünnfilme für thermoelektrische Anwendungen (SiGe-TE), Si- und SiGe-Dünnfilme für thermoelektrische Anwendungen (SiGe-TE)" wird/wurde gefördert durch: Bundesministerium für Bildung und Forschung. Es wird/wurde ausgeführt durch: IHP GmbH - Innovations for High Performance Microelectronics,Leibniz-Institut für innovative Mikroelektronik.
Das Projekt "Si- und SiGe-Dünnfilme für thermoelektrische Anwendungen (SiGe-TE), Si- und Si-Ge-Dünnfilme für thermoelektrische Anwendung (SiGe-TE)" wird/wurde gefördert durch: Bundesministerium für Bildung und Forschung. Es wird/wurde ausgeführt durch: Fraunhofer-Institut für Werkstoffmechanik, Außenstelle Halle.
Das Projekt "Si- und SiGe-Dünnfilme für thermoelektrische Anwendungen (SiGe-TE)^Si- und Si-Ge-Dünnfilme für thermoelektrische Anwendung (SiGe-TE)^Glancing Angle Deposition von Si-Ge-Nanosäulen^Si- und SiGe-Dünnfilme für thermoelektrische Anwendungen (SiGe-TE), Si- und SiGe-Dünnfilme für thermoelektrische Anwendungen (SiGe-TE)" wird/wurde gefördert durch: Bundesministerium für Bildung und Forschung. Es wird/wurde ausgeführt durch: Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften, Max-Planck-Institut für Mikrostrukturphysik.