Auf Basis des etablierten Technologiestatus wird folgendes angestrebt: - Entwicklung von grossflaechigen Modulen mit stabilisierten Wirkungsgraden von 7 bis 8 Prozent (mittelfristig) (Umsetzung, Verbesserung und Optimierung von etablierter Technologie), - Entwicklung der technologischen Grundlagen zur Umsetzung von innovativen Basistechnologien, um langfristig Module mit Eta stabil = 10 Prozent herstellen zu koennen, - Weiterentwicklung und Optimierung aller relevanten verfahrenstechnischen Prozesse, um bei Fortfuehrung und Intensivierung der Pilotierung einen wirtschaftlichen Fertigungsbetrieb zu demonstrieren.
Der vorliegende Bericht beinhaltet grundlegende Arbeiten zur Weiterentwicklung der a-Si PV-Technologie. Er behandelt die Themen: Entwicklung von PECVD-Prozessen auf großen industrierelevanten Flächen, Verbesserung und Optimierung von Strukturierungsverfahren für hohe Flächenausnutzung, Beschleunigung und Reproduzierbarkeit der Einzelprozesse sowie Langzeitstabilität von verkapselten Modulen. Der Nachweis, dass a-Si Dünnschichtmodule höhere Erträge im Vergleich zu anderen PV-Technologien erbringen kann, wurde erbracht. Eine grundlegende Entscheidung wurde getroffen für die zukünftige Generation der PECVD-Anlage, eine Einkammerlaboranlage der Fa. Unaxis mit 1,4m2 Substratgröße wurde in Betrieb genommen. Entwicklungsarbeiten wurden begonnen.