Das Projekt "EnOB: FLEX-G -Erforschung von Rolle-zu-Rolle Technologien zur Herstellung flexibler und gebogener Fassaden- und Dachelemente mit schaltbarem Gesamtenergiedurchlassgrad, Teilvorhaben: Aufskalierung einer neuen Barriereschicht und einer transparenten Elektrodenschicht mittels Sputtertechnologie" wird/wurde gefördert durch: Bundesministerium für Wirtschaft und Klimaschutz. Es wird/wurde ausgeführt durch: ROWO Coating Gesellschaft für Beschichtung mbH.Ziel des EnOB-Verbundvorhabens FLEX-G ist die Erforschung von Technologien zur Herstellung von transluzenten und transparenten Dach- und Fassadenelementen mit integrieren optoelektronischen Bauelementen. Im Fokus steht dabei ein schaltbarer Gesamtenergiedurchlassgrad (g-Wert). Dieser wird durch elektrochrome Bauelemente erreicht, die mittels Rolle-zu-Rolle Beschichtungsverfahren direkt auf einer flexiblen ETFE-Folie aufgebaut werden. ETFE ist ein häufig in Membrandächern von Stadien, Flughäfen oder Bahnhöfen eingesetztes Material. Ein zweites Projektziel ist die Erforschung von Technologien zur direkten Integration großflächiger flexibler Solarzellen auf Basis der organischen Photovoltaik in ETFE Membranen sowie die Anpassung dieser an spezifischen Anforderungen im Membranbau. Das Teilvorhaben des Partners ROWO Coating hat das Ziel, die Aufskalierung der am FEP erarbeiteten Rolle-zu-Rolle Beschichtungstechnologie für die produktive Abscheidung von Permeationsbarriereschichten auf der ETFE-Folie mittels reaktivem Sputtern durchzuführen, sowie auch die Aufskalierung der Sputterbeschichtung von transparenten Elektrodenschichten auf diesen Permeationsbarriereschichten.
Das Projekt "HORA - Hochratenabscheidetechnologie für die Kontakte von kristallinen Silizium-Solarzellen^HORA - Hochratenabscheidetechnologie für die Kontakte von kristallinen Silizium-Solarzellen, HORA - Hochratenabscheidetechnologie für die Kontakte von kristallinen Silizium-Solarzellen" wird/wurde gefördert durch: Bundesministerium für Umwelt, Naturschutz und Reaktorsicherheit. Es wird/wurde ausgeführt durch: Applied Materials GmbH & Co. KG.In diesem Projekt sollen die Grundlagen für die industrielle Umsetzung von physikalischen Gasphasen-Abscheidetechnologien für die Kontakte von kristallinen Si-Solarzellen erforscht und entwickelt werden. Unter Verwendung dieser industriell umsetzbaren Hochratenabscheidetechnologie sollen Zellwirkungsgrade auf monokristallinen Si-Scheiben von größer als 20% demonstriert werden. Die Ergebnisse dieser Entwicklung sollen in einem industriellen Einsatz von Hochrateabscheideverfahren für Si-Solarzellen münden. Diese Verfahren stehen sowohl für dickere Schichten (bspw. zur Rückseitenmetallisierung) als auch dünnere (vorderseitige Galvaniksaatschichten) zur Verfügung. Zur Evaluierung der Inline-Fähigkeit der Abscheidetechnologie wird am Fraunhofer ISE ein vorkommerzieller Prototyp aufgebaut.
Das Projekt "Teilprojekt 2: Oxidische Schichten^Teilprojekt 1: Sulfidische und selenidische Schichten^Teilprojekt 2: Oxidische Schichten^Verschleissfeste PVD-/CVD-Trockenschmierstoffschichten fuer die umweltschonende und innovative Fertigung^Teilprojekt 2: Oxidische Schichten^Teilprojekt 3: Kohlenstoffbasierte Schichten^Teilprojekt 1: Oxidische Schichten^Verschleissfeste PVD-/CVD-Trockenschmierstoffschichten fuer die umweltschonende und innovative Fertigung^Teilprojekt 1: Sulfidische und selenidische Schichten^Teilprojekt 1: Sulfidische und selenidische Schichten^Teilprojekt 4: Boridische und silizidische Schichten^Teilprojekt 3: Kohlenstoffbasierte Schichten^Teilprojekt 3: Kohlenstoffbasierte Schichten^Teilprojekt 4: Boridische und silizidische Trockenschmierstoffschichten^Teilprojekt 4: Boridische und silizidische Schichten^Teilprojekt 3: Kohlenstoffbasierte Schichten, Teilprojekt 2: Oxidische Schichten" wird/wurde gefördert durch: Bundesministerium für Bildung und Forschung. Es wird/wurde ausgeführt durch: Euromat GmbH.Ziel der Arbeiten der EUROMAT GmbH innerhalb des Teilprojektes ist es, unter Einsatz der Hochfrequenz- und DV-Sputtertechnoloige, oxidische Schichtsysteme und hier insbesondere Multilayerschichten zu entwickeln und auf ihre Eignung als Trockenschmierstoffschicht hin zu untersuchen. Als Beschichtungsanlage steht eine produktionstaugliche Anlage CC800-RF zur Verfuegung. Als Ausgangspunkt der Entwicklung dient ein Schichtsystem auf der Basis TiAlN und Al2O3. Das Schichtsystem TiAlN/Al2O3 soll in einem ersten Schritt durch die Modifikation von Lagezahlen und den Einbau weicher Zwischenschichten hinsichtlich seiner Eigenschaften fuer die Trockenbearbeitung untersucht und angepasst werden. Zweiter Ansatz ist die Basis ZrO2 bzw. ZrO2+A12O3. ZrO2 zeigt bei hoher Bruchzaehigkeit und Verschleissfestigkeit mit gleichzeitig geringem Reibungskoeffizienten gegenueber Stahl gute Ergebnisse.
Das Projekt "Entwicklung einer Dünnschichttechnologie zur Herstellung von gasempfindlichen Metallschichten für die Gassensorik - Neuartiger elektrochemischer Dünnschichtsensor zur Messung von Schadgasen" wird/wurde gefördert durch: Arbeitsgemeinschaft Industrieller Forschungsvereinigungen 'Otto-von-Guericke' e.V. / Bundesministerium für Wirtschaft und Arbeit. Es wird/wurde ausgeführt durch: Technische Universität Dresden, Institut für Festkörperelektronik.Entwicklung einer Sputtertechnologie zur Herstellung aktiver Sensorschichten, Herstellung von Testmustern für elektrochemische NOx Dünnschichtsensoren, Entwicklung von Messverfahren zur Bewertung von Dünnschichten für elektrochemische Gassensoren.